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無鹵指令產(chǎn)生背景 
繼無鉛制程後，新一波的綠色電子浪潮～無鹵素(Halogen-free)將再次席卷全球之電子產(chǎn)業(yè)。在即將開始實施的挪威PoHS法令中，已明確規(guī)范十八種必須排除的有害物質(zhì)，第一類群組即為溴系阻燃劑，包括六環(huán)溴十二烷(HBCDD)與印刷電路板中最常用的四溴丙二酚(TBBPA)等。除了國際間將陸續(xù)訂定相關(guān)法律外，國際大廠包括ASUS、Dell、HP、Apple、Intel、AMD等公司亦聲明將自2008年開始導(dǎo)入無鹵素材料。
鹵素材料是指在周期表中的氟(F)、氯(Cl) 、溴(Br) 、碘(I) ，主要是在做阻燃的功能，被廣泛應(yīng)用在電子設(shè)備及它的副件包括機器盒、印制電路板、纜繩導(dǎo)線、塑料零件及包裝材料。電子零組件與材料、電子產(chǎn)品的接著技術(shù)、產(chǎn)品外殼 (Housing)，PP、ABS、PMMA、PC…、塑膠、色料等。
鹵素的危害也是眾所周知的，有機鹵化合物在人體中可導(dǎo)致癌癥，而且其低生物降解率會導(dǎo)致生態(tài)系統(tǒng)中的積累，一些揮發(fā)性的有機鹵化物對臭氧層也有極大的破壞作用，進而對環(huán)境和人類健康造成嚴(yán)重影響，因此鹵素化合物被列為對人類和環(huán)境有害的化學(xué)品，禁止或限量使用。

關(guān)于鹵素的法規(guī) 
● 蒙特利爾議定書 :蒙特利爾議定書又稱作蒙特利爾公約，全名為“蒙特利爾破壞臭氧層物質(zhì)管制議定書（Montreal Protocol on Substances that Depletethe Ozone Layer）”，是聯(lián)合國為了避免工業(yè)產(chǎn)品中的氟氯碳化物對地球臭氧層繼續(xù)造成惡化及損害，承續(xù)1985年保護臭氧層維也納公約的大原則，于1987年9月16日邀請所屬26個會員國在加拿大蒙特利爾所簽署的環(huán)境保護公約。該公約自1989年1月1日起生效。
● 斯德哥爾摩公約:2001年5月22日于斯德哥爾摩通過2004年5月17日生效 ,本公約的目標(biāo)是,銘記《關(guān)于環(huán)境與發(fā)展的里約宣言》之原則15確立的預(yù)防原則,保護人類健康和環(huán)境免受持久性有機污染物的危害。
● IEC61249-2-21 :針對鹵素給出了明確的限量值。
● 2003/11/EC是關(guān)于全面禁用兩種含溴阻燃劑的。

國際如鹵素材料的規(guī)范 
從氟利昂到POPs，從PVC到溴化阻燃劑（BFR），有機鹵化物對人體和自然生態(tài)環(huán)境的危害已是不爭的事實。從2006年7月1日起，全面禁用溴類阻燃劑。同時，國際上已有一系列法律法規(guī)禁止在電子電器、玩具和皮革制品上使用部分有毒有害的含鹵有機溶劑，其中包括在生產(chǎn)加工過程中禁止使用、在最終產(chǎn)品上不得殘留、在最終產(chǎn)品上可揮發(fā)的含鹵有機物不得超過某一限制。
國際組織或大廠如IEC、IPC、JPCA及三星等均已定義其無鹵素材料的規(guī)格，其中IEC 61249-2-21規(guī)范要求溴、氯化物之含量必須低於900 ppm，總鹵素含量則必須低於1500 ppm，IPC之無鹵素定義與IEC相同；JPCA之規(guī)范則定義溴化物與氯化物含量限制均為900 ppm，并未要求總鹵素含量。三星規(guī)定溴化物與氯化物含量限制各為900 ppm。

管制鹵素規(guī)定 
● 限制使用氯、溴和總體鹵素的含量
● IEC61249-2-21：2003
印制板及其他互連結(jié)構(gòu)用材料，第2-21部分包含和非包含E玻璃纖維增強無鹵阻燃劑（垂直燃燒試驗)環(huán)氧樹脂覆銅板。
● Cl+Br≦1500ppm
● Cl≦900ppm
● Br≦900ppm
● 日本印刷電路板協(xié)會標(biāo)準(zhǔn)JPCA-ES-01-1999
● Cl≦900ppm
● Br≦900ppm
● 國際印刷電路協(xié)會標(biāo)準(zhǔn)IFC4101B
● Cl≦900ppm
● Br≦900ppm
● 國際中大買家公司環(huán)境政策標(biāo)準(zhǔn)
● Cl+Br≦1500ppm
● Cl≦900ppm
● Br≦900ppm
其他鹵素總量F/I/At目前沒有通用標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)定，不過近幾年來一些負(fù)責(zé)任的國際買家已將F元素納入環(huán)境管控物質(zhì)，后續(xù)應(yīng)會全面的推廣。

無鹵素分析檢測方案 

 
 
儀器分析上，能分析鹵素濃度最常使用的分析儀器分別為XRF(X光螢光光譜儀)及JPJ(離子分析儀)兩種。 
X-熒光光譜儀 (X-ray Fluorescence Spectrometer, XRF )系利用X-光束照射試片以激發(fā)試片中的元素，當(dāng)原子自激發(fā)態(tài)回到基態(tài)時，偵測所釋放出來的螢光，經(jīng)由分光儀分析其能量與強度後，可提供試片中組成元素的種類與含量。
離子色譜法是利用離子交換的原理，使待測定的離子在流動相與固定相間的不同親和力而得以分離，采用電導(dǎo)檢測器測定，根據(jù)各成分的保留時間定性，利用色譜峰面積定量的分析方法。檢測限可以達到ppb的分析水平。目前根據(jù)BS EN14582:2007標(biāo)準(zhǔn)，就是氧彈燃燒利用離子色譜儀分析鹵素。

XRF熒光光譜法 
優(yōu)勢：
1、X射線熒光原理，無損、快速、準(zhǔn)確的檢測和鑒定材料成分；
2、銅材、鋼材、鋅合金、錫合金等各種合金元素成分分析；
3、高分辨率探測器，能夠檢測到幾十ppm的元素含量；
4、固體、粉末、液體等樣品可直接測試
5、幾十秒可得出穩(wěn)定準(zhǔn)確的測試數(shù)據(jù)；
6、測試過程簡單、輸出報告多種格式、查詢篩選統(tǒng)計功能齊全。
7、FP法的譜圖對比分析方法，供應(yīng)商物料發(fā)生變化及時預(yù)警功能。

IEC62321對XRF的定位及缺點 
XRF光譜分析法適用于高分子、金屬和陶瓷材料，包括大部分的電子電氣類產(chǎn)品
XRF光譜分析法是一種無損分析方法
XRF技術(shù)具有快捷、方便兩大特點
XRF分析結(jié)果有合格、不合格、待定三種
XRF光譜分析法是一種比較分析技術(shù)，其性能取決于標(biāo)樣和儀器本身，容易受到基體影響和光譜干涉
XRF光譜分析法光斑照射為樣品中的部分（測試點），對于不均勻的樣品測試偏差會很大
XRF光譜分析法數(shù)據(jù)只能是提供參考，用于材料的快速篩選。

樣品拆分原則： 
按照物理工具進行拆分，到不能在拆分為止。

離子色譜法 
優(yōu)勢：
離子色譜法采用化學(xué)測試，能夠有效全面測試樣品中的鹵素含量；
國際/國家標(biāo)準(zhǔn)的測試方法，均采用離子色譜法；
此方法測試數(shù)據(jù)更加真實可靠，可達到第三方公證機構(gòu)的參數(shù)要求；
此方法對于操作人員要求均低于其他化學(xué)法測試儀器；
儀器使用過程中相對測試成本低，耗材消耗量小